Jaké jsou požadavky na vysoce přesné desky plošných spojů?

Vysoce přesná deska plošných spojů není jednoduchá záležitost. I když předkládá vyšší standardy pro vybavení společnosti a zkušenosti obsluhy, je to také nevyhnutelný důležitý problém ve výrobní technologii. Dnes budeme hovořit o tom, jaké podmínky musíme mít pro vysoce přesnou desku plošných spojů?

Vysoce přesná deska s plošnými spoji se týká použití jemné šířky čáry / rozteče, mikro otvorů, úzké šířky prstence (nebo žádné šířky kroužku) a pohřbených a slepých otvorů pro dosažení vysoké hustoty. Vysoká přesnost znamená, že výsledek "jemného, malého, úzkého a tenkého" nevyhnutelně povede k vysokým požadavkům na přesnost. Vezměte si jako příklad šířku čáry: šířka čáry 0,20 mm, 0,16 ~ 0,24 mm je kvalifikována podle potřeby a chyba je (0,20 ± 0,04) mm; a šířka čáry 0,10 mm, chyba je (0,1 ± 0,02) mm, samozřejmě přesnost druhého je zdvojnásobena a tak dále není těžké pochopit, takže je nutná vysoká přesnost Již nediskutujte samostatně. Ale je to vynikající problém ve výrobní technologii.

V budoucnu bude šířka/ rozteč čáry s vysokou hustotou od 0,20 mm do 0,13 mm - 0,08 mm - 0,005 mm, aby splňovala požadavky SMT a vícečipového balíčku (Mulitichip Package, MCP). Proto je vyžadována následující technologie.

(1)Substrát

Použití tenké nebo ultratenké měděné fólie (<18um) substrate="" and="" fine="" surface="" treatment="">

(2)Proces

Použitím tenčího suchého filmu a procesu mokrého lepení může tenký a kvalitní suchý film snížit zkreslení šířky čáry a vady. Mokrá fólie může vyplnit malé vzduchové mezery, zvýšit přilnavost rozhraní a zlepšit integritu a přesnost drátu.

(3) Elektrolyticky uložený fotorezistentní film

Používá se elektro-uložený fotorezist (Elektro-uložený fotorezist, ED). Jeho tloušťka může být řízena v rozmezí 5-30 / um a může produkovat dokonalejší jemné dráty. Je vhodný zejména pro úzkou šířku prstence, šířku kroužku bez kroužku a celopenzní galvanické pokovování. V současné době existuje na světě více než tucet výrobních linek ED.

(4) Technologie paralelního vystavení světlu

Použití technologie paralelního vystavení světlu. Vzhledem k tomu, že expozice paralelního světla může překonat vliv změny šířky čáry způsobené šikmými paprsky "bodového" světelného zdroje, je možné získat jemné dráty s přesnými rozměry šířky čáry a hladkými hranami. Zařízení pro paralelní expozici je však drahé, investice je vysoká a je nutné pracovat v prostředí s vysokou čistotou.

(5) Technologie automatické optické kontroly

Použití technologie automatické optické kontroly. Tato technologie se stala nepostradatelným prostředkem detekce při výrobě jemných drátů a rychle se propaguje, aplikuje a rozvíjí.